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碳化硅燒結爐(臥式)
碳化硅燒結爐(臥式)
產品描述:
主要用于半導體領域的碳化硅陶瓷制品的真空燒結、氣氛燒結。
應用范圍:
碳化硅陶瓷平臺、導軌、方鏡、反射鏡、晶舟、槳、爐管、吸盤、卡盤、機械臂、聚焦環、刻蝕環、流化床反應容器等

碳化硅燒結爐(臥式)技術特征

可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

采用頂立科技專屬超高溫、大電流引電技術,能在高溫條件下長時間使用;

采用特殊的高溫紅外測量技術,控溫準確,誤差小;

全密閉馬弗,密封效果好,抗污染能力強;

多級高效尾氣處理系統,環境友好,易清理;

可選配脫脂系統,實現陶瓷制品的脫脂燒結一次性處理;

適于工藝氣氛:N2/Ar。

碳化硅燒結爐(臥式)產品規格

參數\型號HSC-050511HSC-100612HSC-101015H(D)SC-101050
工作區尺寸 W×H×L(mm) 500×500×1100 1000×600×1200 1000×1000×1500 1000×1000×5000
最高溫度(℃) 1500-24001500-24001500-24001500-2400
溫度均勻性(℃) ±5~±10±5~±10±5~±10±5~±10
極限真空度(Pa) 1-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

碳化硅燒結爐(臥式)配置選擇

結構形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料

爐門鎖緊方式:手動/自動

爐殼材質:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼

保溫材質:碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈

加熱器、馬弗材質:等靜壓石墨/CFC/陶瓷

熱電偶:K/N/C/S分度號

紅外儀:單比色/雙比色

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